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Electrodeposición

La electrodeposición, es un tratamiento electroquímico donde se apegan los cationes metálicos contenidos en una solución acuosa para ser sedimentados sobre un objeto conductor creando una capa. El tratamiento utiliza una corriente eléctrica para reducir sobre la extensión del cátodo los cationes contenidos en una solución acuosa. Al ser reducidos los cationes precipitan sobre la extensión creando una película fina. El espesor dependerá de varios factores.

Principio de la electrodepositación: un generador crea una corriente eléctrica que realiza la migración de los iones del electrolito hacia el cátodo (pieza a cubrir).

La electrodepositación se emplea principalmente para adjudicar una capa con una propiedad ansiada (por ejemplo, resistencia a la abrasión y al desgaste, protección frente a la corrosión, la necesidad de lubricación, cualidades estéticas, etc.) a una superficie que de otro modo escasea de esa propiedad. Otra aplicación de la electropositación es recrecer el espesor de las piezas desgastadas p.e. mediante el cromo duro.

Su funcionamiento es el antagónico al de una celda galvánica, que utiliza una reacción redox para obtener una corriente eléctrica. La pieza que se desea recubrir se sitúa en el cátodo del circuito, mientras que el ánodo es del metal con el que se desea recubrir la pieza. El metal del ánodo se va consumiendo, reponiendo el depositado.[1]​ En otros procesos de electrodepositación donde se emplea un ánodo no consumible, como los de plomo o grafito, los iones del metal que se deposita debe ser periódicamente repuestos en el baño a medida que se extraen de la solución.[2]

Efectos

La galvanoplastia cambia las propiedades químicas, físicas o mecánicas de la superficie de las pieza, pero no las del interior. Un ejemplo de un cambio químico es cuando niquelado mejora la resistencia a la corrosión. Un ejemplo de un cambio físico es un cambio en la apariencia externa. Un ejemplo de un cambio mecánico es un cambio en la resistencia a la tracción o la dureza de la superficie que es un atributo necesario en la industria de herramientas.[3]

Estos cambios son utilizados en multitud de aplicaciones. Por ejemplo: la electrodepositación de cromo duro en piezas industriales como vástagos de cilindros hidráulicos. (ver: ). La mejorar la resistencia a la abrasión de un objeto, proporcionarle propiedades anticorrosivas, mejorar su necesidad de lubricación, es decir disminuir su coeficiente de rozamiento, o simplemente por cuestiones estéticas, entre otras.

Proceso tecnológico

 
Electrodepositación sobre un metal (Me) de cobre en un baño de sulfato de cobre

El ánodo y el cátodo de la celda conectados a un suministro externo de corriente continua - una batería o, más comúnmente, un rectificador. Ambos estarán sumergidos en un baño por una solución de sales del elemento químico que utilizamos para recubrir el objeto. El cátodo, artículo a recubrir, estará conectado al terminal negativo. Mientras que el ánodo, conectado al terminal positivo, estará compuesto de dicho material para ir aportando iones a la solución a medida que se oxida sustituyendo a los que se están consumiendo en la reacción electroquímica.

Realizando un balance general se puede considerar que cuando se enciende la fuente de alimentación externa, el metal del ánodo se oxida a partir de un estado de valencia cero para formar cationes con carga positiva. Estos cationes asociar con los aniones de la solución. Los cationes se reduce en el cátodo depositándose en el estado metálico, valencia cero. Por ejemplo, en una solución ácida, el cobre se oxida en el ánodo a Cu2+ perdiendo dos electrones. El Cu2+ asociado con el anión SO42- en la solución forman el sulfato de cobre. En el cátodo, el Cu2+ se reduce a cobre metálico al obtener dos electrones. El resultado es la transferencia efectiva de cobre de la fuente de ánodo a una película que recubre el cátodo.

El recubrimiento más común es un metal puro, no una aleación. Sin embargo, algunas aleaciones pueden ser electrodepositada, en particular el latón y soldadura.

Muchos baños galvánicos incluyen cianuros de otros metales (por ejemplo, cianuro de potasio), además de cianuros del metal a depositar. Estos cianuros libres facilitar la corrosión del ánodo, ayudan a mantener un nivel constante de iones metálicos y contribuir a la conductividad. Además, productos químicos no metálicos tales como carbonatos y fosfatos se pueden añadir para aumentar la conductividad.

En la operación hay que tener en cuenta que una geometría compleja dará un espesor de recubrimiento irregular, aumentando este en esquinas del objeto por ejemplo. Estos contratiempos se pueden solucionar utilizando múltiples ánodos o un ánodo que imite la forma del objeto a procesar.

Cuando no se desea el recubrimiento en ciertas áreas del sustrato, se aplican barreras para evitar que el baño entrar en contacto con el sustrato. Barreras típicas son cinta, papel de aluminio, lacas y ceras. [ 3 ]

Un factor muy importante es la corriente que utiliza el sistema para llevar a cabo la operación, será determinante para las propiedades del recubrimiento, ya que establece la adherencia de la capa tanto como su calidad y velocidad de deposición, esta última es directamente proporcional al voltaje. Lo más común es usar corriente continua en pulsos, ciclos de 8-15 segundos activado el sistema para dejar 1-3 segundos de inactividad.

Golpe (Strike)

Inicialmente, un depósito galvanoplástico especial llamado «golpe» o «flash» puede ser utilizado para formar un revestimiento muy delgado (típicamente menos de 0,1 micrómetros de espesor) con una alta calidad y buena adherencia al sustrato. Este sirve como base para posteriores procesos de deposición. Un golpe (strike) utiliza una alta densidad de corriente y un baño con una baja concentración de iones. Este proceso es lento, por lo una vez se obtiene el espesor deseado se utilizan procesos de deposición más eficientes.

Este método se utiliza para el revestimiento de metales diferentes poco compatible. Si es deseable una placa de tipo de depósito en un metal para mejorar la resistencia a la corrosión, pero este metal tiene adherencia inherentemente pobre al sustrato, se deposita primero un golpe (strike) compatible con ambos. Un ejemplo de esta situación es la pobre adhesión de níquel electrolítico en las aleaciones de zinc, en cuyo caso se utiliza un ataque de cobre, que tiene buena adherencia a ambos. [ 2 ]

Pincel galvanoplástico

Un proceso estrechamente relacionado es el pincel galvanoplástico. Áreas localizadas u objetos enteros se trabajan con un pincel saturado con la solución de recubrimiento. El pincel, generalmente un cuerpo de acero inoxidable envuelto con un material textil que sirve tanto para contener la solución de metalización y evitar el contacto directo con el elemento que se está tratando, está conectado al polo positivo de una fuente de corriente continua de bajo voltaje, y el elemento recubrir conectado al negativo. Los huecos de operador del cepillo en solución de metalización a continuación se aplica al elemento, moviendo el cepillo continuamente para conseguir una distribución uniforme del material de recubrimiento. El cepillo galvanoplástico posee varias ventajas sobre los tanques, incluyendo la portabilidad, la capacidad de recubrir elementos que por alguna razón no se pueden introducir en el tanque de recubrimiento (una aplicación es el revestimiento de porciones de columnas de apoyo decorativas muy grandes utilizadas en restauración de edificios), requisitos de enmascaramiento bajo o nulo, y comparativamente se requiere un menor volumen de solución. Las desventajas en comparación con el tanque es que necesita una mayor participación del operador (el tanque de recubrimiento con frecuencia se puede trabajar con un mínimo de atención), y la incapacidad para lograr un gran espesor de recubrimiento.

Depositación sin corriente eléctrica

Por lo general, una celda electrolítica, que consta de dos electrodos, electrolito, y la fuente externa de corriente, se utiliza para la electrodepositación. En contraste, un proceso de deposición electrolítico utiliza solo un electrodo y ninguna fuente externa de corriente eléctrica. Sin embargo, la solución para el proceso electrolítico necesita contener un agente reductor de modo que la reacción del electrodo tiene la forma:

 

En principio, se puede utilizar cualquier reductor a base de agua, aunque el potencial redox del reductor de media celda debe ser lo suficientemente alto como para superar las barreras de energía inherentes en la química de líquido. El niquelado no electrolítico utiliza hipofosfito como reductor, mientras que el chapado de otros metales como la plata, oro y cobre suelen utilizar aldehídos de bajo peso molecular.

Una ventaja importante de este enfoque sobre la galvanoplastia es la no necesidad de fuentes de energía ni de baños de galvanoplastia, reduciendo el costo de producción. La técnica puede también formas diversas de placa y tipo de superficie. La película es más uniforme. Se puede depositar aleaciones y añadir aditivos a la película como Teflón. La desventaja es que dependiendo del material el proceso de galvanizado es generalmente más lento y no se puede crear este tipo de placas gruesas de metal. Como consecuencia de estas características, la deposición no electrolítica es bastante común en las artes decorativas. Aunque va ganado terreno en aplicaciones industriales, una de las cuales, por ejemplo, son los discos duros.

Limpieza

La limpieza es esencial para el éxito de la galvanoplastia, puesto que las capas moleculares de aceite puede impedir la adherencia del recubrimiento. La ASTM B322 es una guía estándar para la limpieza de metales antes de la electrodepositación. Los procesos de limpieza incluyen: limpieza con disolvente, limpieza en caliente con detergente alcalino, electro-limpieza, y tratamiento con ácido, etc. La prueba industrial más común para la limpieza es la prueba waterbreak, en el que se enjuaga a fondo la superficie y se mantiene vertical. Los contaminantes hidrofóbicos, tales como los aceites hacen que el agua de cuentas y se rompen, permitiendo que el agua drene rápidamente. Las superficies de metal perfectamente limpios son hidrófilas y mantendrá una lámina continua de agua que no se cuenta arriba o escurrir. La ASTM F22 describe una versión de esta prueba. Esta prueba no detecta contaminantes hidrófilos, pero el proceso de electrodepositación pueden desplazar éstos fácilmente ya que las soluciones son a base de agua. Los tensioactivos como el jabón reducen la sensibilidad de la prueba y debe ser enjuagado cuidadosamente.

Proceso físico-químico

Ambos componentes se sumergen en una solución llamada electrolito que contiene uno o más sales de metal disueltas, así como otros iones que permiten el flujo de electricidad. Una fuente de alimentación de corriente continua genera un potencial eléctrico en el ánodo y en el cátodo. En el cátodo, los iones metálicos disueltos en la solución electrolítica se reducen en la interfase entre la solución y el cátodo y desaparecen de la disolución. Esto crea un desiquilibrio de cationes en la disolución. Este exceso de cationes se combina los átomos del metal del cátodo formando la sal que se disuelve dejando el metal restante al descubierto, y por otro lado reponiendo los iones precipitados. El cátodo es un sumidero de cationes metálicos y un generador de aniones mientras que en el ánodo sucede lo contrario es un sumidero de aniones y generador de cationes. La cantidad de ambos está regulada por la constante de disociación y las leyes de equilibrio lo cual conlleva a que la velocidad a la que se disuelve el ánodo es igual a la velocidad a la que el cátodo se recubre. Aunque circula una corriente eléctrica esta no la constituyen electrones que viajan entre los electrodos en los aniones, sino que un electrón, o varios, del cátodo reducirá un catión metálico que se depositará. Esto producirá un desequilibrio en la disolución por lo que hará que alguna molécula del electrólito se disocie. Si está lejos del ánodo se volverá a recombinar, pero si está cerca este reaccionará entregando un electrón, o varios, a este y generando una sal soluble que se desprenderá.

Por último indicar que dicha técnica no debe confundirse con la electroforesis, esta se basa en el movimiento hacia un ánodo o cátodo de moléculas o partículas en suspensión en una disolución, no de iones como la electrodepositación.

Ejemplos

Resulta muy común el uso de la electrodepositación metálica en joyas elaboradas con metales baratos a los cuales se les da un revestimiento de una delgadísima película de oro, plata, etc., para aumentar su valor, mejorar su apariencia o para protegerlos de los efectos negativos del medio ambiente, principalmente el oxígeno que produce su pronta corrosión. Igualmente podemos observar que las tarjetas electrónicas por lo general vienen revestidas de una película de oro de algunos micrones, para mantener un buen contacto y conductividad con los dispositivos del circuito.

Celda Hull

 
Una solución de zinc probada en una celda Hull

La celda Hull es un tipo de celda de prueba utilizado para comprobar cualitativamente la condición de un baño galvánico. Se permite la optimización para el rango de densidad de corriente, la optimización de la concentración de aditivo, el reconocimiento de los efectos de la impureza y la indicación de la capacidad de potencia de macro-lanzamiento.[4]​ La celda Hull replica el baño de recubrimiento en una escala de laboratorio.[5]​ Se llena con una muestra de la solución de metalización, un ánodo apropiado que está conectado a un rectificador. El "trabajo" está remplazado por un panel de prueba de celda Hull que se recubre para mostrar la "salud" del baño.

La celda Hull es un recipiente trapezoidal que contiene 267 ml de solución. Esta forma permite colocar el panel de ensayo en un ángulo con respecto al ánodo. Como resultado, el depósito se siembra en placas a diferentes densidades de corriente que se puede medir con una regla de células casco. El volumen de la solución permite una optimización cuantitativa de la concentración de aditivo: 1 Además gramo a 267 ml es equivalente a 0,5 oz / gal en el tanque de revestimiento. [ 9 ]

Referencias

  1. Dufour, IX-1.
  2. Dufour, IX-2.
  3. Todd, pp. 454–458.
  4. Metal Finishing: Guidebook and Directory. Issue 98 95. 1998. p. 588. 
  5. Hull Cell

Bibliografía

  • Dufour, Jim (2006). An Introduction to Metallurgy, 5th ed. Cameron. 
  • Mohler, James B. (1969). Electroplating and Related Processes. Chemical Publishing Co. ISBN 0-8206-0037-7. 
  • Todd, Robert H.; Dell K. Allen and Leo Alting (1994). «Surface Coating». Manufacturing Processes Reference Guide. Industrial Press Inc. ISBN 0-8311-3049-0. 
  •   Datos: Q11079566
  •   Multimedia: Category:Electrowinning

electrodeposición, electrodeposición, tratamiento, electroquímico, donde, apegan, cationes, metálicos, contenidos, solución, acuosa, para, sedimentados, sobre, objeto, conductor, creando, capa, tratamiento, utiliza, corriente, eléctrica, para, reducir, sobre, . La electrodeposicion es un tratamiento electroquimico donde se apegan los cationes metalicos contenidos en una solucion acuosa para ser sedimentados sobre un objeto conductor creando una capa El tratamiento utiliza una corriente electrica para reducir sobre la extension del catodo los cationes contenidos en una solucion acuosa Al ser reducidos los cationes precipitan sobre la extension creando una pelicula fina El espesor dependera de varios factores Principio de la electrodepositacion un generador crea una corriente electrica que realiza la migracion de los iones del electrolito hacia el catodo pieza a cubrir La electrodepositacion se emplea principalmente para adjudicar una capa con una propiedad ansiada por ejemplo resistencia a la abrasion y al desgaste proteccion frente a la corrosion la necesidad de lubricacion cualidades esteticas etc a una superficie que de otro modo escasea de esa propiedad Otra aplicacion de la electropositacion es recrecer el espesor de las piezas desgastadas p e mediante el cromo duro Su funcionamiento es el antagonico al de una celda galvanica que utiliza una reaccion redox para obtener una corriente electrica La pieza que se desea recubrir se situa en el catodo del circuito mientras que el anodo es del metal con el que se desea recubrir la pieza El metal del anodo se va consumiendo reponiendo el depositado 1 En otros procesos de electrodepositacion donde se emplea un anodo no consumible como los de plomo o grafito los iones del metal que se deposita debe ser periodicamente repuestos en el bano a medida que se extraen de la solucion 2 Indice 1 Efectos 2 Proceso tecnologico 2 1 Golpe Strike 2 2 Pincel galvanoplastico 2 3 Depositacion sin corriente electrica 2 4 Limpieza 3 Proceso fisico quimico 4 Ejemplos 5 Celda Hull 6 Referencias 6 1 BibliografiaEfectos EditarLa galvanoplastia cambia las propiedades quimicas fisicas o mecanicas de la superficie de las pieza pero no las del interior Un ejemplo de un cambio quimico es cuando niquelado mejora la resistencia a la corrosion Un ejemplo de un cambio fisico es un cambio en la apariencia externa Un ejemplo de un cambio mecanico es un cambio en la resistencia a la traccion o la dureza de la superficie que es un atributo necesario en la industria de herramientas 3 Estos cambios son utilizados en multitud de aplicaciones Por ejemplo la electrodepositacion de cromo duro en piezas industriales como vastagos de cilindros hidraulicos ver 1 La mejorar la resistencia a la abrasion de un objeto proporcionarle propiedades anticorrosivas mejorar su necesidad de lubricacion es decir disminuir su coeficiente de rozamiento o simplemente por cuestiones esteticas entre otras Proceso tecnologico Editar Electrodepositacion sobre un metal Me de cobre en un bano de sulfato de cobre El anodo y el catodo de la celda conectados a un suministro externo de corriente continua una bateria o mas comunmente un rectificador Ambos estaran sumergidos en un bano por una solucion de sales del elemento quimico que utilizamos para recubrir el objeto El catodo articulo a recubrir estara conectado al terminal negativo Mientras que el anodo conectado al terminal positivo estara compuesto de dicho material para ir aportando iones a la solucion a medida que se oxida sustituyendo a los que se estan consumiendo en la reaccion electroquimica Realizando un balance general se puede considerar que cuando se enciende la fuente de alimentacion externa el metal del anodo se oxida a partir de un estado de valencia cero para formar cationes con carga positiva Estos cationes asociar con los aniones de la solucion Los cationes se reduce en el catodo depositandose en el estado metalico valencia cero Por ejemplo en una solucion acida el cobre se oxida en el anodo a Cu2 perdiendo dos electrones El Cu2 asociado con el anion SO42 en la solucion forman el sulfato de cobre En el catodo el Cu2 se reduce a cobre metalico al obtener dos electrones El resultado es la transferencia efectiva de cobre de la fuente de anodo a una pelicula que recubre el catodo El recubrimiento mas comun es un metal puro no una aleacion Sin embargo algunas aleaciones pueden ser electrodepositada en particular el laton y soldadura Muchos banos galvanicos incluyen cianuros de otros metales por ejemplo cianuro de potasio ademas de cianuros del metal a depositar Estos cianuros libres facilitar la corrosion del anodo ayudan a mantener un nivel constante de iones metalicos y contribuir a la conductividad Ademas productos quimicos no metalicos tales como carbonatos y fosfatos se pueden anadir para aumentar la conductividad En la operacion hay que tener en cuenta que una geometria compleja dara un espesor de recubrimiento irregular aumentando este en esquinas del objeto por ejemplo Estos contratiempos se pueden solucionar utilizando multiples anodos o un anodo que imite la forma del objeto a procesar Cuando no se desea el recubrimiento en ciertas areas del sustrato se aplican barreras para evitar que el bano entrar en contacto con el sustrato Barreras tipicas son cinta papel de aluminio lacas y ceras 3 Un factor muy importante es la corriente que utiliza el sistema para llevar a cabo la operacion sera determinante para las propiedades del recubrimiento ya que establece la adherencia de la capa tanto como su calidad y velocidad de deposicion esta ultima es directamente proporcional al voltaje Lo mas comun es usar corriente continua en pulsos ciclos de 8 15 segundos activado el sistema para dejar 1 3 segundos de inactividad Golpe Strike Editar Inicialmente un deposito galvanoplastico especial llamado golpe o flash puede ser utilizado para formar un revestimiento muy delgado tipicamente menos de 0 1 micrometros de espesor con una alta calidad y buena adherencia al sustrato Este sirve como base para posteriores procesos de deposicion Un golpe strike utiliza una alta densidad de corriente y un bano con una baja concentracion de iones Este proceso es lento por lo una vez se obtiene el espesor deseado se utilizan procesos de deposicion mas eficientes Este metodo se utiliza para el revestimiento de metales diferentes poco compatible Si es deseable una placa de tipo de deposito en un metal para mejorar la resistencia a la corrosion pero este metal tiene adherencia inherentemente pobre al sustrato se deposita primero un golpe strike compatible con ambos Un ejemplo de esta situacion es la pobre adhesion de niquel electrolitico en las aleaciones de zinc en cuyo caso se utiliza un ataque de cobre que tiene buena adherencia a ambos 2 Pincel galvanoplastico Editar Un proceso estrechamente relacionado es el pincel galvanoplastico Areas localizadas u objetos enteros se trabajan con un pincel saturado con la solucion de recubrimiento El pincel generalmente un cuerpo de acero inoxidable envuelto con un material textil que sirve tanto para contener la solucion de metalizacion y evitar el contacto directo con el elemento que se esta tratando esta conectado al polo positivo de una fuente de corriente continua de bajo voltaje y el elemento recubrir conectado al negativo Los huecos de operador del cepillo en solucion de metalizacion a continuacion se aplica al elemento moviendo el cepillo continuamente para conseguir una distribucion uniforme del material de recubrimiento El cepillo galvanoplastico posee varias ventajas sobre los tanques incluyendo la portabilidad la capacidad de recubrir elementos que por alguna razon no se pueden introducir en el tanque de recubrimiento una aplicacion es el revestimiento de porciones de columnas de apoyo decorativas muy grandes utilizadas en restauracion de edificios requisitos de enmascaramiento bajo o nulo y comparativamente se requiere un menor volumen de solucion Las desventajas en comparacion con el tanque es que necesita una mayor participacion del operador el tanque de recubrimiento con frecuencia se puede trabajar con un minimo de atencion y la incapacidad para lograr un gran espesor de recubrimiento Depositacion sin corriente electrica Editar Por lo general una celda electrolitica que consta de dos electrodos electrolito y la fuente externa de corriente se utiliza para la electrodepositacion En contraste un proceso de deposicion electrolitico utiliza solo un electrodo y ninguna fuente externa de corriente electrica Sin embargo la solucion para el proceso electrolitico necesita contener un agente reductor de modo que la reaccion del electrodo tiene la forma M z R e d s o l u c i o n superficie catalitica M s o l i d o O x y s o l u c i o n displaystyle M z Red soluci text o n stackrel text superficie catalitica Longrightarrow M s text o lido Oxy soluci text o n En principio se puede utilizar cualquier reductor a base de agua aunque el potencial redox del reductor de media celda debe ser lo suficientemente alto como para superar las barreras de energia inherentes en la quimica de liquido El niquelado no electrolitico utiliza hipofosfito como reductor mientras que el chapado de otros metales como la plata oro y cobre suelen utilizar aldehidos de bajo peso molecular Una ventaja importante de este enfoque sobre la galvanoplastia es la no necesidad de fuentes de energia ni de banos de galvanoplastia reduciendo el costo de produccion La tecnica puede tambien formas diversas de placa y tipo de superficie La pelicula es mas uniforme Se puede depositar aleaciones y anadir aditivos a la pelicula como Teflon La desventaja es que dependiendo del material el proceso de galvanizado es generalmente mas lento y no se puede crear este tipo de placas gruesas de metal Como consecuencia de estas caracteristicas la deposicion no electrolitica es bastante comun en las artes decorativas Aunque va ganado terreno en aplicaciones industriales una de las cuales por ejemplo son los discos duros Limpieza Editar La limpieza es esencial para el exito de la galvanoplastia puesto que las capas moleculares de aceite puede impedir la adherencia del recubrimiento La ASTM B322 es una guia estandar para la limpieza de metales antes de la electrodepositacion Los procesos de limpieza incluyen limpieza con disolvente limpieza en caliente con detergente alcalino electro limpieza y tratamiento con acido etc La prueba industrial mas comun para la limpieza es la prueba waterbreak en el que se enjuaga a fondo la superficie y se mantiene vertical Los contaminantes hidrofobicos tales como los aceites hacen que el agua de cuentas y se rompen permitiendo que el agua drene rapidamente Las superficies de metal perfectamente limpios son hidrofilas y mantendra una lamina continua de agua que no se cuenta arriba o escurrir La ASTM F22 describe una version de esta prueba Esta prueba no detecta contaminantes hidrofilos pero el proceso de electrodepositacion pueden desplazar estos facilmente ya que las soluciones son a base de agua Los tensioactivos como el jabon reducen la sensibilidad de la prueba y debe ser enjuagado cuidadosamente Proceso fisico quimico EditarAmbos componentes se sumergen en una solucion llamada electrolito que contiene uno o mas sales de metal disueltas asi como otros iones que permiten el flujo de electricidad Una fuente de alimentacion de corriente continua genera un potencial electrico en el anodo y en el catodo En el catodo los iones metalicos disueltos en la solucion electrolitica se reducen en la interfase entre la solucion y el catodo y desaparecen de la disolucion Esto crea un desiquilibrio de cationes en la disolucion Este exceso de cationes se combina los atomos del metal del catodo formando la sal que se disuelve dejando el metal restante al descubierto y por otro lado reponiendo los iones precipitados El catodo es un sumidero de cationes metalicos y un generador de aniones mientras que en el anodo sucede lo contrario es un sumidero de aniones y generador de cationes La cantidad de ambos esta regulada por la constante de disociacion y las leyes de equilibrio lo cual conlleva a que la velocidad a la que se disuelve el anodo es igual a la velocidad a la que el catodo se recubre Aunque circula una corriente electrica esta no la constituyen electrones que viajan entre los electrodos en los aniones sino que un electron o varios del catodo reducira un cation metalico que se depositara Esto producira un desequilibrio en la disolucion por lo que hara que alguna molecula del electrolito se disocie Si esta lejos del anodo se volvera a recombinar pero si esta cerca este reaccionara entregando un electron o varios a este y generando una sal soluble que se desprendera Por ultimo indicar que dicha tecnica no debe confundirse con la electroforesis esta se basa en el movimiento hacia un anodo o catodo de moleculas o particulas en suspension en una disolucion no de iones como la electrodepositacion Ejemplos EditarResulta muy comun el uso de la electrodepositacion metalica en joyas elaboradas con metales baratos a los cuales se les da un revestimiento de una delgadisima pelicula de oro plata etc para aumentar su valor mejorar su apariencia o para protegerlos de los efectos negativos del medio ambiente principalmente el oxigeno que produce su pronta corrosion Igualmente podemos observar que las tarjetas electronicas por lo general vienen revestidas de una pelicula de oro de algunos micrones para mantener un buen contacto y conductividad con los dispositivos del circuito Celda Hull Editar Una solucion de zinc probada en una celda Hull La celda Hull es un tipo de celda de prueba utilizado para comprobar cualitativamente la condicion de un bano galvanico Se permite la optimizacion para el rango de densidad de corriente la optimizacion de la concentracion de aditivo el reconocimiento de los efectos de la impureza y la indicacion de la capacidad de potencia de macro lanzamiento 4 La celda Hull replica el bano de recubrimiento en una escala de laboratorio 5 Se llena con una muestra de la solucion de metalizacion un anodo apropiado que esta conectado a un rectificador El trabajo esta remplazado por un panel de prueba de celda Hull que se recubre para mostrar la salud del bano La celda Hull es un recipiente trapezoidal que contiene 267 ml de solucion Esta forma permite colocar el panel de ensayo en un angulo con respecto al anodo Como resultado el deposito se siembra en placas a diferentes densidades de corriente que se puede medir con una regla de celulas casco El volumen de la solucion permite una optimizacion cuantitativa de la concentracion de aditivo 1 Ademas gramo a 267 ml es equivalente a 0 5 oz gal en el tanque de revestimiento 9 Referencias Editar Dufour IX 1 Dufour IX 2 Todd pp 454 458 Metal Finishing Guidebook and Directory Issue 98 95 1998 p 588 Hull Cell Bibliografia Editar Dufour Jim 2006 An Introduction to Metallurgy 5th ed Cameron Mohler James B 1969 Electroplating and Related Processes Chemical Publishing Co ISBN 0 8206 0037 7 Todd Robert H Dell K Allen and Leo Alting 1994 Surface Coating Manufacturing Processes Reference Guide Industrial Press Inc ISBN 0 8311 3049 0 La referencia utiliza el parametro obsoleto coautores ayuda Datos Q11079566 Multimedia Category ElectrowinningObtenido de https es wikipedia org w index php title Electrodeposicion amp oldid 137421146, wikipedia, wiki, leyendo, leer, libro, biblioteca,

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