La nanolitografía o litografía a la escala del nanómetro, se refiere a la fabricación de microestructuras con un tamaño de escala que ronda los nanómetros. Esto implica la existencia de patrones litografiados en los que, al menos, una de sus dimensiones longitudinales es del tamaño de átomos individuales y aproximadamente del orden de 10 nm. La nanolitografía se usa durante la fabricación de circuitos integrados de semiconductores o sistemas nanoelectromecánicos, conocidos como Nanoelectromechanical Systems o NEMS.
Litografía óptica
La litografía óptica, que ha sido la técnica predominante en el uso de patrones desde el comienzo de la era de los semiconductores, es capaz de producir patrones ligeramente por debajo de los 100 nm, usando longitudes de onda muy cortas (unos 193 nm de manera usual). Este tipo de litografía requiere el uso de inmersión líquida y una multitud de mejoras en la tecnología de fotomáscara (tecnología PSM) además de corrección óptica por proximidad (Optical Proximity Correction o OPC) para llegar a detalles del orden de 32 nm. Existe un sentimiento general, entre los expertos, en el que se afirma que bajar a unos niveles de 30 nm mediante la litografía óptica, no será comercialmente viable[cita requerida]. En este punto, esta técnica deberá ser reemplazada por una nueva generación de litografía (Next Generation Lithography o NGL).
Otras técnicas nanolitográficas
La más corriente de las técnicas nanolitográficas es la litografía de escritura directa por haces de electrones (Electrón Beam Direct Write lithography o EBDW). En esta técnica, el uso de un haz de electrones imprime un patrón, usualmente sobre una resina de polímero que se opone tal como PMMA.
Litografía del ultravioleta extremo (Extreme Ultraviolet lithography o EUV) es una variedad de litografía óptica que usa longitudes de onda muy corta, del orden de 13,5 nm. Es la que se denomina normalmente como técnica NGL
Litografía por partículas cargadas, tales como litografías por iones o proyecciones de electrones (PREVAIL, SCALPEL, LEEPL). Estas técnicas son capaces de producir patrones de muy alta resolución.
Litografía de nanoimpresión (Nanoimprint Lithography o NIL) y sus variantes, tales como la litografía de impresión por pasos como LISA y LADI. Estas técnicas son tecnologías de replicación de patrones muy prometedoras. Pueden combinares con la impresión por contacto
Litografía de escaneo por sonda (Scanning Probe Lithographies o SPL) parece ser una prometedora herramienta para la producción de patrones en la escala de los nanómetros[cita requerida]. Por ejemplo, los átomos individuales se pueden manipular usando la punta de un microscopio de efecto túnel (Scanning Tunneling Microscope o STM). La nanolitografía de descenso de sonda es la primera tecnología comercial de tipo SPL disponible basada en el microscopio de fuerza atómica.
El desarrollo más evolucionado de la NGL continúa con la litografía de rayos X, que puede llegar a extenderse a resoluciones de 15 nm por el uso de una reducción de campo cercano.
Sistema de generación de patrones nanométricos (NPGS)
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Nanonex
Impresiones moleculares
EV Group
Litografía de impression nanométrica (NIL)
Obducat
Nanolithography at Georgia Tech
Datos:Q1106386
Marcha 01, 2022
nanolitografía, nanolitografía, litografía, escala, nanómetro, refiere, fabricación, microestructuras, tamaño, escala, ronda, nanómetros, esto, implica, existencia, patrones, litografiados, menos, dimensiones, longitudinales, tamaño, átomos, individuales, apro. La nanolitografia o litografia a la escala del nanometro se refiere a la fabricacion de microestructuras con un tamano de escala que ronda los nanometros Esto implica la existencia de patrones litografiados en los que al menos una de sus dimensiones longitudinales es del tamano de atomos individuales y aproximadamente del orden de 10 nm La nanolitografia se usa durante la fabricacion de circuitos integrados de semiconductores o sistemas nanoelectromecanicos conocidos como Nanoelectromechanical Systems o NEMS Indice 1 Litografia optica 2 Otras tecnicas nanolitograficas 3 Vease tambien 4 Enlaces externosLitografia optica EditarLa litografia optica que ha sido la tecnica predominante en el uso de patrones desde el comienzo de la era de los semiconductores es capaz de producir patrones ligeramente por debajo de los 100 nm usando longitudes de onda muy cortas unos 193 nm de manera usual Este tipo de litografia requiere el uso de inmersion liquida y una multitud de mejoras en la tecnologia de fotomascara tecnologia PSM ademas de correccion optica por proximidad Optical Proximity Correction o OPC para llegar a detalles del orden de 32 nm Existe un sentimiento general entre los expertos en el que se afirma que bajar a unos niveles de 30 nm mediante la litografia optica no sera comercialmente viable cita requerida En este punto esta tecnica debera ser reemplazada por una nueva generacion de litografia Next Generation Lithography o NGL Otras tecnicas nanolitograficas EditarLa mas corriente de las tecnicas nanolitograficas es la litografia de escritura directa por haces de electrones Electron Beam Direct Write lithography o EBDW En esta tecnica el uso de un haz de electrones imprime un patron usualmente sobre una resina de polimero que se opone tal como PMMA Litografia del ultravioleta extremo Extreme Ultraviolet lithography o EUV es una variedad de litografia optica que usa longitudes de onda muy corta del orden de 13 5 nm Es la que se denomina normalmente como tecnica NGLLitografia por particulas cargadas tales como litografias por iones o proyecciones de electrones PREVAIL SCALPEL LEEPL Estas tecnicas son capaces de producir patrones de muy alta resolucion Litografia de nanoimpresion Nanoimprint Lithography o NIL y sus variantes tales como la litografia de impresion por pasos como LISA y LADI Estas tecnicas son tecnologias de replicacion de patrones muy prometedoras Pueden combinares con la impresion por contactoLitografia de escaneo por sonda Scanning Probe Lithographies o SPL parece ser una prometedora herramienta para la produccion de patrones en la escala de los nanometros cita requerida Por ejemplo los atomos individuales se pueden manipular usando la punta de un microscopio de efecto tunel Scanning Tunneling Microscope o STM La nanolitografia de descenso de sonda es la primera tecnologia comercial de tipo SPL disponible basada en el microscopio de fuerza atomica El desarrollo mas evolucionado de la NGL continua con la litografia de rayos X que puede llegar a extenderse a resoluciones de 15 nm por el uso de una reduccion de campo cercano Vease tambien EditarFotolitografiaEnlaces externos EditarSistema de generacion de patrones nanometricos NPGS Articulos con las ultimas noticias sobre investigacion en nanotecnologia Nanonex Impresiones moleculares EV Group Litografia de impression nanometrica NIL Obducat NanoInk Raith JMAR JENOPTIK Mikrotechnik Sandia National Lab EUV Sub 30nm pitch self assembly assisted by large trenches Nanolithography at Georgia Tech Datos Q1106386 Obtenido de https es wikipedia org w index php title Nanolitografia amp oldid 140987081, wikipedia, wiki, leyendo, leer, libro, biblioteca,
